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大流量氣體過濾器，專為半導體制程超高純工藝氣體在線過濾應用設計，采用全316L不銹鋼精密打造，多柱狀或疊盤狀介質設計確保高流通量下低阻損，過濾精度高達0.003μm，滿足超高純工藝需求。整體金屬構造，是高溫動態環境下的理想過濾解決方案

墊圈式設計確保易于安裝，使其成為 MFC（質量流量控制器）模塊、精密閥門和壓力調節器的重要保護屏障。 多孔金屬限流過濾器能夠承受高達 400°C 的溫度，有效阻止顆粒侵入，保護敏感氣體成分。

工藝氣體專用過濾器，專為半導體制程中真空腔體快速放氣應用進行設計。結合了擴散器的氣體流動特性和高效過濾器的顆粒攔截特性，擴散器專用過濾器過濾精度可達0.003μm。全316L不銹鋼結構，不僅確保高效過濾，更巧妙的規避了湍流產生，對工藝室環境造成影響，有效防止氣流吹起顆粒或者吹起硅片。可定制化設計，靈活適應各類安裝空間。

工藝氣體專用過濾器，專為半導體制程中真空腔體快速放氣應用進行設計。結合了擴散器的氣體流動特性和高效過濾器的顆粒攔截特性，擴散器專用過濾器過濾精度可達0.003μm。全316L不銹鋼結構，不僅確保高效過濾，更巧妙的規避了湍流產生，對工藝室環境造成影響，有效防止氣流吹起顆粒或者吹起硅片。可定制化設計，靈活適應各類安裝空間。

工藝氣體專用過濾器，專為半導體制程中真空腔體快速放氣應用進行設計。結合了擴散器的氣體流動特性和高效過濾器的顆粒攔截特性，擴散器專用過濾器過濾精度可達0.003μm。全316L不銹鋼結構，不僅確保高效過濾，更巧妙的規避了湍流產生，對工藝室環境造成影響，有效防止氣流吹起顆粒或者吹起硅片。可定制化設計，靈活適應各類安裝空間。

工藝氣體專用過濾器，專為半導體制程中真空腔體快速放氣應用進行設計。結合了擴散器的氣體流動特性和高效過濾器的顆粒攔截特性，擴散器專用過濾器過濾精度可達0.003μm。全316L不銹鋼結構，不僅確保高效過濾，更巧妙的規避了湍流產生，對工藝室環境造成影響，有效防止氣流吹起顆粒或者吹起硅片。可定制化設計，靈活適應各類安裝空間。